Laser Interference Lithography
雷射干涉微影,基本原理則是利用兩道(含)以上之同調光源進行干涉,使其在三維空間中形成干涉條紋,且不受時間改變而產生變化,並利用光敏感層記錄此干涉條紋,即完成奈米級圖案之定義。目前本研究團隊已成功開發出雷射干涉微影自動化系統,利用Lloyd’s Mirror光學系統搭配自動進料系統,透過一次性的曝光製程,可定義出奈米級一維週期性結構,藉由自動化系統旋轉曝光底座,便可進行第二次曝光,定義出二維奈米級週期性結構。
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